[发明专利]一种铁、钴修饰的磷化镍纳米片阵列及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110765304.7 申请日: 2021-07-07
公开(公告)号: CN113481529B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 余颖;段丁槊;黄楚强;邱明强 申请(专利权)人: 华中师范大学
主分类号: C25B11/091 分类号: C25B11/091;C25B1/04;B82Y40/00
代理公司: 北京专赢专利代理有限公司 11797 代理人: 李斌
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明适用于电解海水产氧催化剂技术领域,提供了一种铁、钴修饰的磷化镍纳米片阵列及其制备方法,该材料为生长在泡沫镍衬底上的非晶相与晶相共存的铁、钴修饰磷化镍纳米片阵列,其中铁的原子含量为1.62~3.09%,钴的原子含量为0.65~1.34%,铁、钴的原子比为2:1~4:1;采用两步水热法和气相沉积法制备铁、钴修饰磷化镍纳米片阵列,步骤包括:首先,采用第一步水热法制备得到氢氧化镍纳米片,然后采用第二步水热法将铁、钴修饰到氢氧化镍纳米片阵列中;其次,采用一步气相沉积法制备得到铁、钴修饰磷化镍纳米片阵列。本发明提供的铁、钴修饰的磷化镍纳米片阵列作为电解水及电解海水析氧的工作电极,表现出了优异的催化活性。
搜索关键词: 一种 修饰 磷化 纳米 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
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