[发明专利]MXene墨水及电磁辐射屏蔽材料构件

摘要

本发明提供一种MXene墨水及电磁辐射屏蔽材料构件，涉及电磁辐射屏蔽材料领域。该MXene墨水中的MXene纳米片层横向尺寸分布在1‑10μm，厚度为2‑10nm，所述MXene墨水浆料的固含量为10‑30wt％。其制备方法包括：将LiF与盐酸混合均匀，加入Ti3AlC2粉末并升温反应；离心水洗收集上层分散液，梯度离心获得大尺寸的MXene纳米片层。进一步地，可将该MXene墨水浆料制成图案化MXene电磁屏蔽二维构件和适形性MXene电磁屏蔽立体构件。在交变电磁场中，该构件具有可调节的电磁屏蔽效能，根据实际屏蔽应用场景，实现电磁屏蔽结构材料外形的灵活设计；并且该构件具有制备方法简单、材料利用率高、可规模化生产等诸多优点，解决现有金属电磁屏蔽材料适形性差、生产成本高及制备工艺复杂等问题。