[发明专利]一种深浅坑交接区域箱式挡墙施工结构有效
| 申请号： | 202110722463.9 | 申请日： | 2021-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN113404085B | 公开（公告）日： | 2022-11-11 |
| 发明（设计）人： | 赵星辰;李玉峰;齐勇;李更林;代礼平;李泽宇 | 申请（专利权）人： | 中建二局第一建筑工程有限公司 |
| 主分类号： | E02D29/045 | 分类号： | E02D29/045 |
| 代理公司： | 北京兴智翔达知识产权代理有限公司 11768 | 代理人： | 郭卫芹 |
| 地址： | 102600 北京市大兴区经*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种深浅坑交接区域箱式挡墙施工结构，属于箱式挡墙施工技术领域。该深浅坑交接区域箱式挡墙施工结构，包括筏板组件、箱式挡墙件和楼承垫板件。所述筏板组件包括分别设置于浅坑区和深坑区的第一筏板和第二筏板。所述楼承垫板件位于紧贴所述第一筏板底部的所述第一墙体和所述第二墙体之间，所述楼承垫板件包括楼承板本体以及连接于所述楼承板本体两端的连接件，所述连接件分别固定于所述连接部处。通过增设一个楼承垫板件，在该楼承垫板件浇筑施工以及养护完毕后再进行第一筏板的施工，有效避免模板及支架的浪费，尤其对于高度超较高的深浅坑施工，能够有效降低施工成本，同时大大提高了施工效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 深浅 交接 区域 箱式 挡墙 施工 结构 | ||
【主权项】：
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