[发明专利]记录装置及记录方法在审
| 申请号： | 202110693932.9 | 申请日： | 2021-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN113829752A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 宫坂笃史 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/01 | 分类号： | B41J2/01 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 车美灵 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及记录装置及记录方法，抑制伴随电晕照射而发生的自由基成为喷出不良的原因。记录装置(1)具备：送出部(2)，支承卷状的被记录介质(M)并送出被记录介质(M)；喷头(5)，向从送出部(2)送出的被记录介质(M)的表面喷出油墨以形成图像；电晕照射部(6)，配置于被记录介质(M)的输送路径中的送出部(2)与喷头(5)之间，并通过进行电晕照射对表面进行改性；以及输送路径长度变更部(20)，配置在输送路径中的电晕照射部(6)与喷头(5)之间，且能够变更输送路径的长度。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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