[发明专利]一种团簇能量逐级递减的团簇离子束表面抛光方法在审
| 申请号： | 202110687568.5 | 申请日： | 2021-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN113458876A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 瓦西里·帕里诺维奇;曾晓梅;付德君;杨兵 | 申请（专利权）人： | 武汉大学深圳研究院 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 武汉华旭知识产权事务所 42214 | 代理人： | 高剑锋 |
| 地址： | 518052 广东省深圳市南山区粤海街道*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及团簇离子应用领域，具体涉及一种团簇能量逐级递减的团簇离子束表面抛光方法。团簇离子束对靶材抛光过程中，靶材表面会产生半球形结构孔洞，对于硬度一致的靶材，团簇能量越高，遗留的孔洞直径也越大,而低能团簇溅射率太低，很难除去表面凸起，靶材表面粗糙度难以达到预期。本发明提供的方法在对靶材进行抛光时，采用能量呈阶梯状逐级递减的团簇离子束对靶材抛光，对于靶材上的细高凸起采用高能团簇离子束，宽矮凸起采用中能团簇离子束，最后使用低能团簇离子束除去中高能团簇离子束对靶材造成的孔洞损伤，优化表面形状；对于不同粗糙程度的靶材，还可选择团簇能量阶梯递减的减幅梯度，更符合现场需求，抛光效率及效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 能量 逐级 递减 离子束 表面 抛光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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