[发明专利]基于聚焦离子束刻蚀的加工正型结构的方法及应用在审
| 申请号： | 202110674301.2 | 申请日： | 2021-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN113415782A | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 王雅思;洪文晶;刘俊扬;赵春凤;郑珏婷 | 申请（专利权）人： | 嘉庚创新实验室 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B1/00 |
| 代理公司： | 厦门原创专利事务所(普通合伙) 35101 | 代理人： | 郭金华 |
| 地址： | 361000 福建省厦门*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种基于聚焦离子束刻蚀的加工正型结构的方法，包括以下步骤：S1，在衬底上沉积一层金属薄膜；S2，使用聚焦离子束刻蚀技术在所述金属薄膜上刻蚀负型结构，所述负型结构的底部贯通金属薄膜；S3，再在所述金属薄膜的上表面沉积黏附层，然后在所述黏附层上沉积二次沉积材料，同时保证在所述负型结构内填充所述黏附层和二次沉积材料；S4，在所述二次沉积材料的上表面黏附透明胶带，所述透明胶带对所述二次沉积材料的上表面进行全覆盖并露出至少一个边沿；S5，通过露出的边沿，将所述衬底上的金属薄膜剥离，留下所述负型结构内的黏附层和所述二次沉积材料黏附在所述衬底上，即在所述衬底上形成正型结构。该方法加工效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 聚焦 离子束 刻蚀 加工 结构 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉庚创新实验室，未经嘉庚创新实验室许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110674301.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于风湿免疫的辅助治疗装置
- 下一篇：一种多时钟源高可靠时间同步方法
