[发明专利]发光装置在审
| 申请号： | 202110624740.2 | 申请日： | 2021-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN113833997A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 今堀良政 | 申请（专利权）人： | 船井电机株式会社 |
| 主分类号： | F21S2/00 | 分类号： | F21S2/00;F21V7/00 |
| 代理公司： | 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 | 代理人： | 刘春成;刘春燕 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种发光装置，其具有：基板、设置于基板上的多个发光元件和反射片，反射片被设置为在基板上被定位于预定的基准位置，并且具有多个开口分别使发光元件暴露。开口被形成为相对于发光元件中的相应发光元件而第一间距大于第二间距，第一间距位于每个开口与发光元件中的相应发光元件之间并且位于比发光元件中的相应发光元件更远离基准位置的位置处，并且第二间距位于每个开口与发光元件中的相应发光元件之间并且位于比发光元件中的相应发光元件更接近基准位置的位置处。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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