[发明专利]共聚焦扫描式暗场显微成像方法与装置有效
| 申请号： | 202110547197.0 | 申请日： | 2021-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN113281891B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;邱宇轩;张宇森;刘旭 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G02B21/00 | 分类号： | G02B21/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 刘静 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种共聚焦扫描式暗场显微成像方法与装置，该方法将激光器发出的激光光束的相位调制成0‑2nπ涡旋相位，其中n＞3；将调制后的光束与共聚焦扫描显微镜的物镜入瞳共轭，使得物镜的聚焦光斑为空心光斑，且空心光斑内环半径大于不进行相位调制时的实心光斑半径；使共聚焦扫描显微镜工作，实现暗场显微成像。本发明采用共聚焦设计，在探测器前放置一个小孔，小孔所在平面与物面共轭，阻挡了离焦信号进入探测器，这种设计提高了成像的信噪比和分辨率，使暗场显微成像具有良好的层析能力。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 扫描 暗场 显微 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
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