[发明专利]一种等离子密度可调的离子源装置在审
| 申请号： | 202110541749.7 | 申请日： | 2021-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN115376870A | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 张瑶瑶;刘小波;胡冬冬;张怀东;刘海洋;李晓磊;李娜;郭颂;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J27/18 | 分类号： | H01J27/18;H01J37/08;H05H1/46 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 李想 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种等离子密度可调的离子源装置，属于半导体设备领域。等离子密度可调的离子源装置的放电腔的外侧缠绕线圈；射频模块与线圈相连接；气管道导入离子源腔室与所述放电腔相连通；离子源腔室与放电腔的同向开放端面设有格栅；放电腔由两个非统一直径的大径段放电腔及小径段放电腔组成；大径段放电腔及小径段放电腔相通；大径段放电腔的一端面为开放端面，该开放端面面向格栅。本发明涉及等离子密度可调的离子源装置，采用不同位置的线圈可以对晶圆的中间区域及边缘区域进行独立与整体轰击，使得调整放电腔的等离子体密度分布，保证刻蚀均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 密度 可调 离子源 装置 | ||
【主权项】：
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