[发明专利]用于产生均匀磁场梯度的装置在审
| 申请号： | 202110517881.4 | 申请日： | 2021-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN113075601A | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 陆俊;张志高;许志一 | 申请（专利权）人： | 中国计量科学研究院 |
| 主分类号： | G01R33/385 | 分类号： | G01R33/385 |
| 代理公司： | 北京市正见永申律师事务所 11497 | 代理人： | 黄小临;冯玉清 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于产生均匀磁场梯度的装置。根据一实施例，一种用于产生磁场梯度的装置可包括彼此相对设置的两个瓦片状导电条，每个瓦片状导电条沿长度方向笔直延伸，并且在与所述长度方向垂直的横截面内具有抛物线形状，所述两个瓦片状导电条设置为其凹陷侧彼此相对。通过优化所述抛物线形状，本发明的装置能产生均匀的磁场梯度，从而提高相关磁测量的精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 产生 均匀 磁场 梯度 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国计量科学研究院，未经中国计量科学研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110517881.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
