[发明专利]曝光参数配置方法、装置及电子设备和介质有效
| 申请号： | 202110512351.0 | 申请日： | 2021-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN113259600B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 肖雪 | 申请（专利权）人： | 北京地平线机器人技术研发有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/235 | 分类号： | H04N5/235;H04N5/243 |
| 代理公司： | 北京唐颂永信知识产权代理有限公司 11755 | 代理人： | 刘伟 |
| 地址： | 100094 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种曝光参数配置方法、装置及电子设备和介质，所述方法包括：确定曝光增益与行数之间预设对应关系；获取要进行配置的多个曝光量，以及用于配置所述多个曝光量的调整阈值；基于所述预设对应关系、调整阈值以及预设的参数配置规则，从所述曝光量的初始值开始，获取每一所述曝光量对应的曝光增益目标值和行数目标值。这样，可以提高曝光参数配置效率和用户自定义自由度，从而提升用户体验。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 参数 配置 方法 装置 电子设备 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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