[发明专利]一种优化腐蚀终止层的980nm半导体激光器及其制备方法在审
| 申请号： | 202110461647.4 | 申请日： | 2021-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN115249946A | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 刘飞;朱振;张东东 | 申请（专利权）人： | 山东华光光电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/323 | 分类号： | H01S5/323;H01S5/34;H01S5/343;C23C16/30 |
| 代理公司： | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人： | 陈桂玲 |
| 地址： | 250101 山东省济*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： |
本发明涉及一种优化腐蚀终止层的980nm半导体激光器及其制备方法。所述激光器包括由下至上依次设置的衬底、缓冲层、下限制层、下波导层、In |
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| 搜索关键词： | 一种 优化 腐蚀 终止 980 nm 半导体激光器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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