[发明专利]一种渗透检测PSM试块退化实验拍照装置及其使用方法在审

专利信息
申请号: 202110457227.9 申请日: 2021-04-27
公开(公告)号: CN113125453A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 何旭东;高亚玮;田冲;唐海云 申请(专利权)人: 贵州航天精工制造有限公司
主分类号: G01N21/91 分类号: G01N21/91;G01N21/84;G01N21/01
代理公司: 遵义浩嘉知识产权代理事务所(普通合伙) 52112 代理人: 幸云强
地址: 563125 *** 国省代码: 贵州;52
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摘要: 发明提供一种渗透检测PSM试块退化实验拍照装置及其使用方法,所述拍照装置包括照相机、导光管、光扩散板、紫外发光部、连接板、试块安装部、罩体;试块安装部安装在连接板上表面右端,在试块安装部左侧设有试块安装槽;导光管安装在连接板上表面左端,在导光管内壁涂有反光材料;光扩散板封堵在导光管右端开口处,在光扩散板左侧设有相机安装壳;照相机套装在相机安装壳内且其镜头正对试块安装槽紫外发光部为封堵在导光管左端开口处且其发光面向右朝向导光管右端出口的紫外光发光体的紫外光发光体;罩体将拍照机构与连接板以及试块安装部都罩入其内。本发明可以解决现有技术拍出的照片存在反光点和黑光会对拍照造成遮挡的问题。
搜索关键词: 一种 渗透 检测 psm 退化 实验 拍照 装置 及其 使用方法
【主权项】:
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