[发明专利]一种并行曝光抑制超衍射极限激光直写物镜在审
申请号: | 202110403505.2 | 申请日: | 2021-04-15 |
公开(公告)号: | CN113093480A | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 白剑;匡翠方;魏震;丁晨良;刘旭;徐良;朱大钊;王洪庆;刘秋兰 | 申请(专利权)人: | 之江实验室;浙江大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B13/00;G02B13/14 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 邱启旺 |
地址: | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种并行曝光抑制超衍射极限激光直写物镜。该物镜由12片正光焦度镜片,8片负光焦度镜片共20片镜片构成,其中5片镜片采用火石玻璃、15片镜片采用冕牌玻璃构,且8片为超低色散镜片。该物镜数值孔径约为1.4、波长522nm‑790nm范围内光的垂轴色差小于5.1nm、物方视场角±4.2°,像方线视场约1mm,可将用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写的两波长激光聚焦在直径1μm以内,且两波长焦点在全视场范围内重合,达到边缘曝光抑制的效果,最终实现特征线宽小于衍射极限的超衍射极限激光直写。利用本发明聚焦得到的激光光斑,可广泛应用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写。 | ||
搜索关键词: | 一种 并行 曝光 抑制 衍射 极限 激光 物镜 | ||
【主权项】:
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