[发明专利]一种单材料多孔结构的拓扑优化设计方法有效

专利信息
申请号: 202110396411.7 申请日: 2021-04-13
公开(公告)号: CN113191044B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 李好;佟海峰;高亮;曹玮娴;李航 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G06F30/23 分类号: G06F30/23
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 孔娜
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于单材料结构拓扑优化设计相关技术领域,其公开了一种单材料多孔结构的拓扑优化设计方法,包括以下步骤:(1)构建单材料多孔结构,进而通过扩展系数矩阵分块法进行插值以计算得到初始扩展系数;(2)计算单材料多孔结构中连续变化的单元伪密度、结构总体积及每个单元的局部伪密度,并求取局部伪密度最大值;(3)对单材料多孔结构的弹性模量进行插值以得到等效单元弹性模量;(4)在求解得到整体结构的位移场,进而计算单材料多孔结构最小柔度拓扑优化模型的目标函数;接着,计算目标函数、结构总体积及局部伪密度对设计变量的灵敏度,继而得到单材料多孔结构的结构拓扑。本发明提高了优化求解效率,降低了优化复杂性及计算量。
搜索关键词: 一种 材料 多孔 结构 拓扑 优化 设计 方法
【主权项】:
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