[发明专利]一种基于无掩膜光刻机的数字掩膜版工艺有效
| 申请号： | 202110344156.1 | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN113064330B | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 冯捷;吴阳;严振中;刘威 | 申请（专利权）人： | 赫智科技(苏州)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人： | 廖娜 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于无掩膜光刻机的数字掩膜版工艺，将已经设计的图形采用软件处理生成黑白二值的位图图像，接着传入DMD，利用DMD的特性使紫外光对应位图图像的部分反射，黑色区域不会反射紫外光，白色区域反射紫外光，使样品得到正确的曝光，完成光刻。本发明能实现高效的光刻，提高工作效率的同时，还能提高精确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 无掩膜 光刻 数字 掩膜版 工艺 | ||
【主权项】：
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