[发明专利]用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法有效
| 申请号： | 202110340477.4 | 申请日： | 2021-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN112964838B | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 董芳 | 申请（专利权）人： | 临沂大学 |
| 主分类号： | G01N33/00 | 分类号： | G01N33/00;B01L9/06 |
| 代理公司： | 北京栈桥知识产权代理事务所(普通合伙) 11670 | 代理人： | 潘卫锋 |
| 地址： | 276000 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法，装置包括装置主体、分段光照装置、叶片处理装置、光系统II处理装置和内周天线处理装置，分段光照装置包括竖直将装置主体平均分为三部分的隔板槽一、二、三，隔板槽一、二、三的夹角处分别设有可调节光源，隔板槽一、二、三连接处设有圆柱型光照控制槽，叶片处理装置包括弧形槽体一、叶片存储装置和密封遮盖，光系统II处理装置包括弧形槽体二和试管架一，内周天线处理装置包括弧形槽体三和试管架二。总之，本发明具有结构新颖、操作方便、研究效率高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 研究 胁迫 对光 系统 ii 结构 功能 影响 装置 方法 | ||
【主权项】：
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