[发明专利]一种1英寸锗加工片的抛光方法有效
| 申请号： | 202110327310.4 | 申请日： | 2021-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN113146451B | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | 端平;曾琦;江云;刘兴达;胡丽平;柯尊斌;王卿伟 | 申请（专利权）人： | 中锗科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B49/00;B24B41/06;B24B57/02 |
| 代理公司： | 南京中律知识产权代理事务所(普通合伙) 32341 | 代理人： | 李建芳 |
| 地址： | 211299 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种1英寸锗加工片的抛光方法，所用抛光液中的氯含量5.5～6.0g/L，pH值为10.0～10.2；抛光为先粗抛、后精抛，粗抛时，陶瓷盘和大盘的转速均为38～42rpm，抛光液的喷洒量为1500‑2000ml/min；精抛时，陶瓷盘和大盘的转速均为38～42rpm，抛光液的喷洒量为800‑1200ml/min；粗抛和精抛时，转头对陶瓷盘施加的向下的压力均为1000‑1200N。本发明1英寸锗加工片的抛光方法，提高了掉量速率，提高了抛光效率和抛光质量；减少了药液消耗，降低了抛光液成本；降低了跑片几率，提高了抛光的稳定性，提高了设备利用效率；提高了成品率，产品的平整度提高，均匀性好，晶片表面损伤小，抛光后杂质、颗粒粘污少，容易清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 英寸 加工 抛光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中锗科技有限公司，未经中锗科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110327310.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
