[发明专利]一种应力诱导提高薄膜应用频率的薄膜制备方法在审
| 申请号： | 202110324972.6 | 申请日： | 2021-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN113088894A | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 孙科;张婧;何宗胜;邬传健;余忠;蒋晓娜;兰中文 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/54 |
| 代理公司： | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人： | 吴姗霖 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： |
一种利用应力诱导提高软磁薄膜应用频率的制备方法，属于薄膜制备技术领域。包括：1)清洗柔性衬底；2)清洗后的柔性衬底放入高真空电子束蒸发系统，柔性衬底弯曲后固定在样品架上；3)抽真空，开始预熔料，电子枪的电流为30～40mA，电压为10kV，时间为4～5min；预熔料结束后，蒸镀速率为0.1～0.7nm/s，在弯曲的柔性衬底上沉积软磁薄膜。本发明制得的软磁薄膜，当柔性衬底由凹形(凸形)变为平整时，会在薄膜中引入张应力(压应力)，与未引入应力相比，由于磁致伸缩效应，软磁薄膜表现出明显的磁各向异性，使得薄膜的应用频率提高至1GHz以上，并同时保持较高的磁导率(μ′ |
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| 搜索关键词： | 一种 应力 诱导 提高 薄膜 应用 频率 制备 方法 | ||
【主权项】：
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