[发明专利]一种基于光纤端超透镜的笔光刻系统和制备方法有效
| 申请号： | 202110321468.0 | 申请日： | 2021-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN113064329B | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 魏鹤鸣;吴彰理;张保;韩龙;庞拂飞;王廷云 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/30;G03F9/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 郑海峰 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于光纤端超透镜的笔光刻系统和制备方法，属于光学微纳米结构制备技术领域。本发明在单模光纤端面借助双光子激光直写技术制备超透镜，将制备的超透镜与其他光学器件结合搭建笔光刻系统。由于超透镜能够解决现有透镜技术中存在的灵活性差、尺寸受限、效率低等问题，并且能够实现对于光束相位、幅度、偏振完全控制，克服了传统笔光刻系统体积大、成本昂贵、效率低、难以集成等问题；本系统通过结合光纤端超透镜，能够在任意基底材料和制备环境下高精度地制备微纳器件，节约制备成本和时间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光纤 透镜 光刻 系统 制备 方法 | ||
【主权项】：
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