[发明专利]一种超黑高性能Ti-DLC涂层的制备工艺有效

专利信息
申请号: 202110298324.8 申请日: 2021-03-19
公开(公告)号: CN113061845B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 张心凤;夏正卫;李灿民;范洪跃 申请(专利权)人: 安徽纯源镀膜科技有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/34;C23C14/02;C23C14/14
代理公司: 合肥九道和专利代理事务所(特殊普通合伙) 34154 代理人: 胡发丁
地址: 230088 安徽省合肥市高*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种超黑高性能Ti‑DLC涂层的制备工艺,包括将工件置于真空腔室内,对真空腔室进行抽气处理,抽气处理后对真空腔室和/或工件进行除杂处理,除杂处理后向真空腔室内充入Ar,采用中频电源孪生Ti靶在工件的表面制备打底层,打底层制备好后,向真空腔室内增加充入C2H2,在打底层上制备过渡层,制备过渡层的过程中按照需求调控过渡层制备参数进行变化,调控变化的过渡层制备参数包括Ar充入量、C2H2充入量、工件偏压、Ti靶材电压中的一者或几者;过渡层制备好后,保持各过渡层制备参数稳定继续镀膜,从而在过渡层上制备出稳定色层。本发明提供的上述方案,其制备的镀膜性能优异,DLC的L值低于30,可有效扩展应用范围。
搜索关键词: 一种 超黑高 性能 ti dlc 涂层 制备 工艺
【主权项】:
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