[发明专利]基于均匀活性光片的高轴向分辨率三维打印方法和装置有效

专利信息
申请号: 202110293324.9 申请日: 2021-03-18
公开(公告)号: CN113059807B 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 匡翠方;杨顺华;刘旭;李海峰;曹春;徐良 申请(专利权)人: 之江实验室;浙江大学
主分类号: B29C64/264 分类号: B29C64/264;B29C64/20;B29C64/10;B33Y30/00;B33Y10/00
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 孙孟辉
地址: 310023 浙江省杭州市余*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开一种基于均匀活性光片的高轴向分辨率三维打印方法和装置。该方法将连续光整形及分束后,得到两束相同的准直激光光片,并对称入射在样品池中完全重叠为一个均匀光薄片,该光薄片区域引发剂被激发到活性态,通过另一束宽带光照射活性态引发剂可引发聚合反应,该宽带光从正交方向入射到光薄片,避免了聚合反应的累积效应,可获得高洁净度的刻写结构,光薄片未被宽带光照射的区域不发生聚合反应,宽带光光场结构高速切换,可进行任意结构的刻写,宽带光在活性薄片中实现时空同步聚焦,轴向功率梯度大,具有高轴向分辨率。该方法与装置可实现高洁净度高轴向分辨率的三维复杂结构高通量刻写,可应用于超分辨光刻等领域。
搜索关键词: 基于 均匀 活性 轴向 分辨率 三维 打印 方法 装置
【主权项】:
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