[发明专利]一种先进的多孔高分子纳米片及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202110216995.5 申请日: 2021-02-26
公开(公告)号: CN113036208B 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 吴丁财;吴金伦;刘绍鸿;崔印 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: H01M10/052 分类号: H01M10/052;H01M4/62;H01M4/58;H01M4/38;H01M4/36;H01M4/136;B82Y40/00;B82Y30/00
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 宫爱鹏
地址: 510275 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种先进的多孔高分子纳米片及其制备方法和应用,本发明在零维二氧化硅和二维石墨烯表面上,利用高分子表面接枝技术制备了零维二氧化硅分子刷和二维石墨烯分子刷,通过两者的交联诱导共组装反应并刻蚀二氧化硅后,得到多孔高分子纳米片。制得的纳米片表面上均匀分布着大量具有层次孔结构的聚合物纳米球,可在锂硫电池充放电过程中为硫活性物质的转化中的体积变化提供足够的缓冲空间;同时石墨烯作为纳米片的导电主干能促进电荷的快速转移,提高电极的导电性。交联诱导共组装策略能够在多孔高分子骨架中产生大量的强极性基团,能有效地抑制多硫化物的扩散和损失。该纳米片用于锂硫电池正极材料时展现出优异的倍率和循环性能。
搜索关键词: 一种 先进 多孔 高分子 纳米 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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