[发明专利]一种抗地形效应与背景影响的新型植被指数的校正方法有效
| 申请号： | 202110198563.6 | 申请日： | 2021-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN112986241B | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 尹高飞;陈瑞 | 申请（专利权）人： | 西南交通大学 |
| 主分类号： | G01N21/84 | 分类号： | G01N21/84;G01N21/552 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 申星宇 |
| 地址： | 610000 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抗地形效应与背景影响的新型植被指数的校正方法，包括A收集植被的遥感影像和DEM数据；B由所述DEM数据计算坡度、坡向，对所述遥感影像进行大气校正，获得地表反射率；C根据坡度数据和地表反射率计算各像元对应的植被指数NIRv和地形校正因子P；将所述植被指数NIRv和地形校正因子P作为输入计算抗地形植被指数。本发明提出的在原有植被指数引入地形校正因子进行校正的方法，普适性强，具有较强的抗地形性和表征植被结构的能力，有望进一步提高植被指数在山区的应用潜力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 地形 效应 背景 影响 新型 植被 指数 校正 方法 | ||
【主权项】：
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