[发明专利]一种功率半导体器件的结温提取方法有效

专利信息
申请号: 202110134810.6 申请日: 2021-02-01
公开(公告)号: CN113064042B 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 刁利军;刘博;王磊;刁利坚;刘新博;任家辉;张艳 申请(专利权)人: 北京交通大学;北京同力智达科技有限公司
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26;G06F30/367
代理公司: 北京卫平智业专利代理事务所(普通合伙) 11392 代理人: 张新利;谢建玲
地址: 100044*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及了一种功率半导体器件的结温提取方法,通过仿真软件搭建双脉冲实验电路,以SiC MOSFET为例,选其作为开关管,测量功率器件漏源电压vds的电压尖峰和功率半导体的结温,分析发现引起电压尖峰的原因包括跨导系数、门极阈值电压以及栅漏电容,而这些影响因素同样受到结温影响,通过仿真实验得到结温和关断电压尖峰存在着负的对应关系。该方法对开关管两端的电压波动有着很好的屏蔽作用,只需通过测量漏源电压vds的尖峰即可得到结温大小,该方法测量过程相较于其他结温提取方法读数更容易,精确度更高。
搜索关键词: 一种 功率 半导体器件 提取 方法
【主权项】:
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