[发明专利]一种放射性去污可剥离复合膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202110133938.0 | 申请日： | 2021-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN112852201A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 张慧媛;习海玲;朱文超;张红兴;王学利;何勇 | 申请（专利权）人： | 东华大学 |
| 主分类号： | C09D4/06 | 分类号： | C09D4/06;C09D4/02;C09D5/20 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所(普通合伙) 31233 | 代理人： | 宋旭 |
| 地址： | 201620 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种放射性去污可剥离复合膜及其制备方法，复合膜包括可剥离层和加强层。本发明所提供的可剥离去污膜具有成膜快速、极易剥离、抗撕裂性优异、成膜剥离率高的特点，并且能够在低温条件下使用，特别适用于高寒地区的快速放射性去污。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 放射性 去污 剥离 复合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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