[发明专利]多层聚合物薄膜三维光子晶体及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202110030746.7 申请日: 2021-01-11
公开(公告)号: CN114763019A 公开(公告)日: 2022-07-19
发明(设计)人: 岳文成;汪巍;涂芝娟;余明斌 申请(专利权)人: 上海新微技术研发中心有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: B32B3/24 分类号: B32B3/24;B32B7/023;B32B17/10;B32B27/30;B32B27/36;B32B27/06;B32B33/00;B32B38/04;G02B1/00
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 罗泳文
地址: 201800 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种多层聚合物薄膜三维光子晶体及其制作方法,三维光子晶体包括:基底和聚合物薄膜叠层,聚合物薄膜叠层贴合在基底表面,聚合物薄膜叠层由两种或两种以上具有不同折射率的聚合物薄膜交替地周期性排布形成,聚合物薄膜叠层具有多个垂直穿透其厚度方向的空气孔,空气孔在聚合物薄膜叠层中按晶格形式排列。本发明采用的聚合物薄膜的结构千变万化,易于成形和处理,生产制作工艺简单,成本低,利于大面积制作,且聚合物材料种类众多,折射率、密度等可以调控,为光子晶体制作提供了很大的选择空间,可使得光子晶体具有各种各样不同的性质,同时本发明可大大地降低光子晶体的制作难度。
搜索关键词: 多层 聚合物 薄膜 三维 光子 晶体 及其 制作方法
【主权项】:
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