[发明专利]铜铝膜蚀刻液有效
| 申请号： | 202110029611.9 | 申请日： | 2021-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN112877695B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 吴豪旭 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/20 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 远明 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例公开了一种铜铝膜蚀刻液，所述铜铝膜蚀刻液相对于所述蚀刻液的总重量，以重量计，包含：4％至10％的过氧化氢，0.1％至1％的过氧化氢稳定剂，0.05％至0.5％的蚀刻抑制剂，10％至30％的螯合剂，0.2％至2％的表面活性剂，0.2％至5％的无机磷酸盐或无机磷酸氢盐，0.1％至5％的无机酸，0至0.05％的氟化物以及余量的去离子水。本申请蚀刻液具有较长的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 铜铝膜 蚀刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
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