[发明专利]真空布拉格光栅和制造方法在审
| 申请号： | 202080062857.X | 申请日： | 2020-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN114450608A | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | J·D·沃德恩;A·J·格兰特;M·M·波波维奇;S·阿布拉哈姆;B·G·希尔;T-J·霍 | 申请（专利权）人： | 迪吉伦斯公司 |
| 主分类号： | G02B6/10 | 分类号： | G02B6/10;G02B6/34;G02B27/01;G02B5/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 周阳君 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文中描述了用于波导中的光栅和产生光栅的方法的改进。与常规SRG和布拉格(Bragg)光栅相比，深表面起伏光栅(SRG)可提供许多优点，重要的一个优点为较高的S衍射效率。在一个实施例中，深SRG可实施为聚合物表面起伏光栅或真空布拉格光栅(EBG)。可通过首先记录全息聚合物分散液晶(HPDLC)光栅来形成EBG。从经固化光栅去除液晶提供聚合物表面起伏光栅。聚合物表面起伏光栅具有许多应用，包括用于基于波导的显示器中。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 布拉格 光栅 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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