[发明专利]高去除率的磁流变精加工头在审
| 申请号： | 202080062307.8 | 申请日： | 2020-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN114340845A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | W.梅斯纳;J.戴维斯;C.马洛尼 | 申请（专利权）人： | QED技术国际股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B31/112 | 分类号： | B24B31/112 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 磁流变精加工头，包括磁极片，其被定制成喷嘴形状和轮形状以最大化体积去除率。用于磁流变流体带的承载轮是非球面的，优选具有垂直于旋转轴的短半径和平行于旋转轴的长半径的环形，尽管所述轮的形状可为平行于轮的旋转轴的任何非球面或自由形态，例如，环形或圆柱形。通过如下方式产生磁场：使极片塑形，以在它们之间的限定间隙上产生基本均匀的磁场，从而使流体带的区域中的场强是均匀的。喷嘴具有非圆形开口以提供具有覆盖磁场的宽度范围的宽度的流体流。这三个特征的组合允许新颖的MRF去除功能元件。 | ||
| 搜索关键词： | 去除 流变 精加工 | ||
【主权项】：
暂无信息
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