[发明专利]光学系统、光学设备及光学系统的制造方法在审
| 申请号： | 202080059645.6 | 申请日： | 2020-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN114341696A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 山下雅史;伊藤智希;栗林知宪;古井田启吾;三轮哲史;小松原阳子;渡边胜也;野中杏菜;槙田步 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B15/173 | 分类号： | G02B15/173;G02B15/177;G02B15/167 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 季莹;方应星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光学系统(LS)具有满足以下条件式的透镜(L11)：‑0.010ndLZ‑(2.015‑0.0068×νdLZ)，50.00νdLZ65.00，0.545θgFLZ，‑0.010θgFLZ‑(0.6418‑0.00168×νdLZ)，其中，ndLZ：透镜的对d线的折射率，νdLZ：透镜的以d线为基准的阿贝数，θgFLZ：透镜的相对部分色散。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 光学 设备 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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