[发明专利]真空系统用光电阴极在审

专利信息
申请号: 202080046309.8 申请日: 2020-06-19
公开(公告)号: CN114127885A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: P·U·耶普森;S·L·朗厄;须山本比吕;井口昌彦 申请(专利权)人: 丹麦技术大学;浜松光子学株式会社
主分类号: H01J1/34 分类号: H01J1/34
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦
地址: 丹麦*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种真空系统用光电阴极,其中,所述光电阴极被构成为接收具有入射波长的电磁辐射并且响应于此而发射电子。所述光电阴极包括具有几何形状的导电结构,所述几何形状包括尖端部分。当用电磁辐射照射导电结构时,尖端部分适合于提供场增强β,其中,β大于约102。所述光电阴极还包括基板,所述基板是电介质基板或包括电介质基板,所述基板支撑导电结构。
搜索关键词: 真空 系统 用光 阴极
【主权项】:
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