[发明专利]功率密度暴露控制有效

专利信息
申请号: 202080031781.4 申请日: 2020-04-30
公开(公告)号: CN113748612B 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: R·马利克;R·N·沙拉;J·H·朴 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: H04B7/0408 分类号: H04B7/0408;H04B7/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 戴开良
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开内容的各个方面通常涉及无线通信。在一些方面中,用户设备(UE)可以从UE能够使用UE的包括多个天线元件的天线阵列形成的多个波束中选择两个发送波束,其中,两个发送波束是要被用于发送对应的两个层的信息的;在选择两个发送波束之后,至少部分地基于两个发送波束来确定要被应用于两个发送波束的相位差;以及使用相位差,经由两个发送波束,在对应的两个层上同时地发送信息。提供了许多其它方面。
搜索关键词: 功率密度 暴露 控制
【主权项】:
暂无信息
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