[发明专利]用于深紫外光源的光学元件在审
| 申请号： | 202080016486.1 | 申请日： | 2020-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN113474951A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | S·达斯;E·A·梅森;J·T·梅尔基奥尔 | 申请（专利权）人： | 西默有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/034 | 分类号： | H01S3/034;H01S3/08;H01S3/083;H01S3/225;C30B29/12;C30B33/00;G02B1/118;H01S3/081;H01S3/0971;H01S3/23 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳;郑振 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种用于深紫外光源的光学元件，包括晶体衬底；位于晶体衬底的外部表面上的涂层，该涂层具有沿着远离外部表面延伸的方向的厚度；以及位于涂层上和/或中的结构，该结构包括沿着该方向远离晶体衬底延伸的多个特征。这些特征包括非晶介电材料并且被布置为使得结构的折射率沿着方向发生变化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 深紫 光源 光学 元件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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