[发明专利]用于无掩模光刻技术的半色调方案在审
| 申请号： | 202080015113.2 | 申请日： | 2020-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN113454536A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 克里斯多弗·丹尼斯·本彻;约瑟夫·R·约翰逊;托马斯·L·莱蒂格 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文描述的实施方式提供光刻工艺的系统、软件应用、及方法，以在单程中写入全色调部分及灰色调部分。系统的一个实施方式包括经构造以提供掩模图案数据至光刻系统的控制器。控制器经构造以通过多次发射中的灰色调发射及全色调发射，而在时间上划分多个空间光调制器像素，且控制器经构造以在变化由光源生成的光束的第二强度，并在全色调发射时变化由每个影像投射系统的光源生成的光束的第一强度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 无掩模 光刻 技术 色调 方案 | ||
【主权项】：
暂无信息
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