[发明专利]具备增强薄膜的设备及其制造方法、以及增强方法在审
| 申请号： | 202080013946.5 | 申请日： | 2020-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN113423575A | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 片冈贤一;仲野武史 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B32B38/18 | 分类号： | B32B38/18;B32B27/00;B32B27/18;C09J7/38;C09J11/06;C09J201/00;G09F9/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 增强薄膜(5)具备固着层叠于薄膜基材(11)的一个主面上的光固化性的粘合剂层(2)。在薄膜基材的背面设置有含有导电聚合物和粘结剂的抗静电层(12)。将增强薄膜的粘合剂层临时粘合于被粘物(9)的表面后，从薄膜基材的形成抗静电层的一面侧对粘合剂层照射活性光线，使粘合剂层光固化。通过在使粘合剂层光固化时不对抗静电层照射波长200～280nm的紫外线，能够抑制抗静电层的劣化。 | ||
| 搜索关键词： | 具备 增强 薄膜 设备 及其 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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