[发明专利]曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法在审
| 申请号： | 202080012561.7 | 申请日： | 2020-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN113383275A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 吉田亮平;井田真高;吉田大辅;野嶋琢己;松桥佑介;渡辺畅章 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 王茜;臧建明 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种曝光装置，包括：照明光学系统，包含具有多个透镜元件的复眼透镜；投影光学系统；照度变更构件，相对于对第一曝光区域及第二曝光区域各自的一部分重复的第二区域进行曝光的照明光的照度，以第二区域以外的第一区域的照度相对地变低的方式，覆盖对第一区域进行曝光的照明光穿过的区域；以及控制部，控制照度变更构件的相对于透镜元件的相对移动；通过相对移动，而变更由照度变更构件覆盖的区域，且在维持与扫描方向正交的非扫描方向上的第一区域的曝光量分布的状态下，变更非扫描方向上的第二区域的曝光量分布。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 照明 光学系统 以及 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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