[发明专利]下层膜形成用材料、抗蚀剂下层膜及层叠体在审
| 申请号： | 202080012316.6 | 申请日： | 2020-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN113365820A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 井上浩二;川岛启介;藤井谦一;小田隆志 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/06 | 分类号： | B32B27/06;C08G61/06;G03F7/11;G03F7/26;H01L21/027;B32B7/027;B32B3/30 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 陈彦;郭玫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种在多层抗蚀剂工艺中使用的下层膜形成用材料，其满足：(i)由以下数学式(1)定义的元素构成比率Re为1.5～2.8，(ii)玻璃化转变温度为30～250℃，(iii)包含至少1种(优选为2种以上)具有特定结构单元的树脂。数学式(1)中，N |
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| 搜索关键词： | 下层 形成 用材 抗蚀剂 层叠 | ||
【主权项】：
暂无信息
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