[发明专利]感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 202080006354.0 | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN113168099A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 丹吴直纮;小岛雅史;上村稔;后藤研由;白川三千纮;山本庆 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含：树脂A，通过酸的作用而极性增大；树脂B，包含选自由含有氟原子且在酸的作用下极性增大的树脂B1、含有氟原子且在碱的作用下极性增大的树脂B2、及含有氟原子且在酸的作用和碱的作用中的任一作用下极性都增大的树脂B3组成的组中的1种以上；以及化合物，通过光化射线或辐射线的照射而产生酸，通过上述光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上，其中，上述树脂B1～上述树脂B3不包含含有离子键合性基团的重复单元。 | ||
| 搜索关键词： | 感光 射线 辐射 线性 树脂 组合 抗蚀剂膜 图案 形成 方法 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
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