[发明专利]底面曝光的3D打印设备、控制方法及控制系统有效
| 申请号： | 202080003333.3 | 申请日： | 2021-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN112654490B | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 高晓飞;刘震 | 申请（专利权）人： | 苏州铼赛智能科技有限公司 |
| 主分类号： | B29C64/124 | 分类号： | B29C64/124;B29C64/255;B29C64/30;B29C64/314;B29C64/321;B29C64/393;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y40/10;B33Y40/00;B33Y50/02 |
| 代理公司： | 上海巅石知识产权代理事务所(普通合伙) 31309 | 代理人： | 张明 |
| 地址： | 215513 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开一种底面曝光的3D打印设备、控制方法及控制系统。所述3D打印设备包括：包括透明的底面的容器，用于盛放待成型材料，以及在所述底面的待成型材料经选择性辐射后形成图案固化层；供料机构，与所述容器连通，用于在打印过程中至少一次地向所述容器中供应所述待成型材料；其中，至少一次向所述容器中所供应的待成型材料用于在其特性稳定期间形成有限层数的图案固化层。本申请提供的底面曝光的3D打印设备，利用供料机构或容器壁上的出料通道，有效限制容器内所盛放的待成型材料的体量，使得3D打印设备在随供随用的原则下，尽量减少待成型材料的剩余量。这有效减少因待成型材料不易在容器中长时间存放的问题，以及提高了材料的使用效率。 | ||
| 搜索关键词： | 底面 曝光 打印 设备 控制 方法 控制系统 | ||
【主权项】：
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