[实用新型]一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置有效
| 申请号： | 202023279035.3 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN214529216U | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 解传佳;张永胜;刘浏 | 申请（专利权）人： | 苏州迈为科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/56;C23C14/16;H01L31/18 |
| 代理公司： | 江苏瑞途律师事务所 32346 | 代理人： | 金龙 |
| 地址： | 215200 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种HIT电池连续镀膜PVD中离子源辅助装置，属于HIT电池制备技术领域。针对现有技术中存在的HIT电池的PVD镀膜时使用离子源辅助会牺牲阴极位，影响产能，且离子源与阴极在同一腔室容易导致工艺不稳定等问题，本实用新型提供一种连续镀膜PVD中离子源辅助装置，分子泵室与溅射室间隔设置，载板依次通过工艺室中各分子泵室和溅射室；离子源位于分子泵室中，旋转阴极设置在溅射室中，载板依次进入分子泵室和溅射室，分子泵室的离子源对基底表面的薄膜进行处理，溅射室的旋转阴极在基底沉积薄膜，离子源设置在分子泵室，实现无需占用阴极位置即可进行离子源辅助应有，生产工艺更稳定效率更高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 hit 电池 连续 镀膜 pvd 离子源 辅助 装置 | ||
【主权项】：
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