[实用新型]一种微波离子源辅助的磁控溅射离子镀装置有效
| 申请号： | 202023024105.0 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN213925000U | 公开（公告）日： | 2021-08-10 |
| 发明（设计）人： | 陈炳州 | 申请（专利权）人： | 南通派锐泰特精密科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 方亚曼 |
| 地址： | 226001 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种微波离子源辅助的磁控溅射离子镀装置，包括设备架台、溅射靶座、真空炉体、分子泵以及谐振天线组件；真空炉体设于设备架台上，溅射靶座设于真空炉体外侧壁；分子泵连通至真空炉体一侧；谐振天线组件包括依次连接的功放器、微波监测器、第一波导、第二波导、谐振天线组以及短路棒；功放器的底面设于真空炉体上表面；谐振天线组与真空炉体的右侧壁贴合连接。本实用新型将功放的波导口径BJ26，借由波导再经由谐振天线设计与机构，将微波均匀地导入长矩形靶的磁控溅射设备；从而解决了微波等离子无法适用于长形磁控溅射设备的问题；有效的进行等离子辅助后氧化的技术。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微波 离子源 辅助 磁控溅射 离子镀 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南通派锐泰特精密科技有限公司，未经南通派锐泰特精密科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202023024105.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
