[实用新型]一种多弧离子镀膜装置有效

专利信息
申请号: 202022792516.8 申请日: 2020-11-26
公开(公告)号: CN213924991U 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 范玉山;黄桃 申请(专利权)人: 苏州德耐纳米科技有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/50
代理公司: 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 代理人: 季栋林
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种多弧离子镀膜装置,涉及镀膜机技术领域,为解决现有的多弧离子镀膜装置对基材固定缺乏灵活性导致镀膜效果较差的问题。所述外壳内部的下方固定设置有工件台,所述工件台的上端安装有旋转座,且旋转座与工件台转动连接,所述旋转座上端的两侧均固定设置有支撑杆,所述支撑杆之间安装有固定机构,且固定机构与支撑杆转动连接,所述外壳内部的上端安装有靶材,所述靶材的下端设置有靶材极,所述靶材的上方安装有多弧离子电源,所述外壳内部的一侧焊接固定有导热箱,所述导热箱的内部安装有蒸发器,所述导热箱的外部设置有导热片,导热片设置有若干个,且导热片依次分布。
搜索关键词: 一种 离子 镀膜 装置
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