[实用新型]用以减少微尘的薄膜沉积设备及其遮挡构件有效
申请号: | 202022759772.7 | 申请日: | 2020-11-25 |
公开(公告)号: | CN214193444U | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 林俊成;郑耀璇 | 申请(专利权)人: | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C16/44 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 361101 福建省厦门市厦门火*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型提供一种用以减少微尘的薄膜沉积设备及其遮挡构件,薄膜沉积设备主要包括一腔体、一载台、一环状构件、一挡件及一盖环。载台及挡件位于腔体的容置空间内,其中环状构件设置在载台上,并位于载台承载的基板周围,而盖环则设置在挡件的一环形凸缘。环状构件包括至少一凹槽,而盖环则包括至少一遮挡部,其中遮挡部朝盖环的一开口的径向内及轴向之间的方向延伸。当一升降装置带动载台靠近挡件时,盖环的遮挡部会进入环状构件的凹槽内,并遮挡凹槽靠近环状构件外侧的侧表面,以避免在环状构件及盖环之间接触的表面沉积薄膜。 | ||
搜索关键词: | 用以 减少 微尘 薄膜 沉积 设备 及其 遮挡 构件 | ||
【主权项】:
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