[实用新型]一种多段式电解等离子体抛光系统有效
| 申请号： | 202022676920.9 | 申请日： | 2020-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN214168138U | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 冯国辉;黄鲲鹏;陈炜旸;陈美珊 | 申请（专利权）人： | 香港生产力促进局 |
| 主分类号： | C23F4/00 | 分类号： | C23F4/00;C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人： | 李岩 |
| 地址： | 中国香港九*** | 国省代码： | 香港;81 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种多段式电解等离子体抛光系统，该系统包括依次设置的处理单元及电解等离子抛光单元；其中，所述处理单元包括清洗槽、超声器及压缩空气吹尘枪，所述清洗槽内设置有超声器，所述压缩空气吹尘枪设置于清洗槽的一侧；所述电解等离子体抛光单元包括整流器和抛光主机，所述抛光主机包括控制面板、保护挡板、抛光槽、阴极、阳极及可移动自动臂，所述抛光槽内设置有分别与可移动自动臂连接的阴极及阳极。该抛光系统用于多种金属及金属合金，抛光后金属表面粗糙度显著下降且形成光泽度极高的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 段式 电解 等离子体 抛光 系统 | ||
【主权项】：
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