[实用新型]负性光刻胶生产用胶液循环过滤装置有效

专利信息
申请号: 202022581402.9 申请日: 2020-11-10
公开(公告)号: CN214319361U 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 张策 申请(专利权)人: 苏州瑞红电子化学品有限公司
主分类号: B01D33/11 分类号: B01D33/11;B01D33/74
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董成
地址: 215124 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及光刻胶生产技术领域,且公开了负性光刻胶生产用胶液循环过滤装置,包括外罐,所述外罐的内部活动套接有内罐,所述内罐的中部固定安装有主轴,所述主轴的外侧面固定套接有螺旋叶片,所述螺旋叶片的外侧面与内罐的内侧面固定连接。该负性光刻胶生产用胶液循环过滤装置,通过在外罐的内部活动套接有内罐,并在内罐的中部固定安装有主轴,以及主轴外侧面的螺旋叶片,并在螺旋叶片上开设有筛孔,当光刻胶从进料罐底端的进料口进入内罐时,此时光刻胶即会落入螺旋叶片的上方,而此时由于螺旋叶片为螺旋形而非平行设计其可增加与光刻胶的接触面积以及接触时间可对光刻胶进行充分过滤,实现了可防止过滤不充分的优点。
搜索关键词: 光刻 生产 用胶液 循环 过滤 装置
【主权项】:
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