[实用新型]一种高精度单晶硅双面加工抛光机有效
申请号: | 202021749264.4 | 申请日: | 2020-08-20 |
公开(公告)号: | CN213289858U | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 陈峰 | 申请(专利权)人: | 浙江众晶电子有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B27/00;B24B55/00;B24B41/02 |
代理公司: | 温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390 | 代理人: | 钱磊 |
地址: | 324302 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种高精度单晶硅双面加工抛光机,包括机体,所述机体前端上方壁体内设有防护门,所述机体一侧上方壁体中设有控制杆,所述控制杆内设有防误触机构,所述防误触机构包括套环与固定环,所述机体顶部一侧设有抛光箱,所述机体顶部后端一侧设有升降杆,所述机体顶部后端另一侧设有控制箱,所述控制杆后端上方壁体与前端下方壁体中分别开设有移动槽。本实用新型所述的一种高精度单晶硅双面加工抛光机,涉及抛光机设备技术领域,通过防误触机构的设置,能够通过套环与按压块的设置,能够对其控制杆进行双重的防误触设置,能够有效的防止人员因误触而导致设备意外启动或者人员受伤等情况的出现。 | ||
搜索关键词: | 一种 高精度 单晶硅 双面 加工 抛光机 | ||
【主权项】:
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