[实用新型]用于流体的连续喷射的微流体设备和系统有效
| 申请号： | 202020895044.6 | 申请日： | 2020-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN213353952U | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | D·朱斯蒂;A·N·科莱基亚;G·桑托鲁沃 | 申请（专利权）人： | 意法半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/14 | 分类号： | B41J2/14 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 意大利阿格*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的各实施例涉及用于流体的连续喷射的微流体设备和系统。一种微流体设备，包括：横向界定腔室的半导体主体；形成膜的中间结构，每个膜在顶部界定对应腔室；以及覆盖中间结构的喷嘴主体。对于每个腔室，设备包括：对应的压电致动器；穿过中间结构并且与腔室连通的供应通道；以及穿过喷嘴主体并且与供应通道连通的喷嘴。每个致动器可以被控制以便：i)在静止状况下操作，以使对应腔室内的流体的压力等于如下值：以便流体穿过供应通道并且以连续流的形式从喷嘴中喷射；ii)在活动状况下操作，在活动状况中，它引起对应膜的变形，并且引起流体的压力的随之而来的变化，从而引起连续流的暂时中断。提供了喷嘴堵塞的风险低的微流体设备。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 流体 连续 喷射 设备 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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