[实用新型]用于磁控溅射镀膜设备的放气装置及磁控溅射镀膜设备有效
| 申请号： | 202020650167.3 | 申请日： | 2020-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN212199402U | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 陈军;李弋舟;陈曦 | 申请（专利权）人： | 长沙韶光铬版有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 马强;胡凌云 |
| 地址： | 410129 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及用于磁控溅射镀膜设备的放气装置及磁控溅射镀膜设备，包括进气管、与进气管连通的第一布气管和套设于第一布气管外的第二布气管，所述第一布气管上设有多个第一孔，所述第二布气管上设有多个第二孔，所述第一孔和第二孔错位设置。气体进入镀膜工艺室的流动速度小，冲击力度低，无需担心玻璃基片等在镀膜工艺室内因气体冲击而变动位置，保证镀膜质量，从而提高镀膜产品的良品率和质量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磁控溅射 镀膜 设备 放气 装置 | ||
【主权项】：
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