[实用新型]一种双面自动对位曝光的设备有效
| 申请号： | 202020483893.0 | 申请日： | 2020-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN211506169U | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 戴童庆;代毓平 | 申请（专利权）人： | 深圳市大川光电设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 宫建华 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种双面自动对位曝光的设备，其设备在工件上下料区设置有一下晒框组件，在曝光区设置有上晒框组件与另一下晒框组件，上晒框组件包括上晒框与驱动上晒框进行平移调整对位的上对位机构，下晒框组件包括下晒框、工件定位销以及驱动工件定位销进行平移调整对位的下对位机构，其曝光区还设置有驱动上晒框组件升降的升降动力机构、位于上晒框组件上方的上对位CCD视觉组件以及位于下晒框组件下方的下对位CCD视觉组件，其工件上下料区与其工件曝光区之间还设置有驱动两下晒框组件之间进行交替换位的下晒框动力组件。本技术方案，其可有效解决现有双面自动对位曝光的方法中存在对位精度低、生产效率低、菲林使用成本高等技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 自动 对位 曝光 设备 | ||
【主权项】：
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